什么是峰殘留?“殘留”是當樣品僅在初始運行中注入時，后續的色譜圖中峰重復出現的情況，殘留可以引入到下一個空白樣品中甚至多個后續的空白樣品中。

　　這種現象會發生在我們的早期方法開發階段、不同實驗室間的方法轉移階段、藥品檢測階段等，殘留問題這一令人沮喪的情況一旦出現，一般會對檢測結果產生干擾，因此消滅它也就是迫在眉睫的事情。

　　殘留主要有三種類型：體積殘留、吸附殘留和不完全洗脫，下面將描述每一種殘留問題的特征，并提供一些區分的技巧及相應的解決方案。

　　1、體積殘留

　　特征：在體積殘留中，少量樣品被困在進樣系統中，殘留的樣品被進樣器帶入下次進樣周期。它的特征是相對于上一次的原始色譜峰，殘留峰的百分率是恒定的。例如，如果原始樣品產生了100,000的峰面積，若殘留率是1%，原始樣品后的空白樣品應會出現一個是原始樣品峰面積1%(1000)的殘留峰。當再次運行空白樣品時，殘留峰的面積會變成1%的1%(10)。這種連續不斷的等比稀釋效應會在運行2次到3次空白樣品后消失。

　　解決辦法：

　　如果懷疑有體積殘留，可以查找可能導致樣品殘留的位置，儀器部件之間的連接存在微小的空隙(如流動相在進樣過程中的流路)。如果儀器發生過系統超壓的情況，PEEK管路可能會輕微滑移導致在連接件內產生小間隙(色譜圖中可能出現柱外效應導致的峰展寬)，這時你可以斷開各連接部件，再將各部件之間的管路重新固定。

　　2 、吸附殘留

　　特征：看起來類似于體積殘留，但事實并非如此，這類殘留在后續的樣品運行過程中不會迅速消失。例如，第一個空白樣品可能出現一個約占原始峰值1%的殘留峰，第二個空白樣品可能也會出現一個是原始峰值的1%或者殘留更少一點的殘留峰，空白樣品中殘留峰的峰值并不會出現等比稀釋的規律，這類的殘留來源是樣品在進樣系統或色譜柱內的表面吸附，樣品吸附在進樣器的內聚物表面。進樣環和進樣針內部是最常見的吸附位置。

　　解決辦法：

　　在極性較大稀釋劑(如水)中溶解的小極性樣品最有可能產生吸附殘留，遇到此類情況可以在稀釋劑中適當加入一些有機試劑即可消除殘留，或者增加洗針溶劑的體積或者強度，甚至可以改變管路表面的性質(用PEEK管代替不銹鋼管)。

　　體積殘留和吸附殘留一般是會同時出現的，在這種情況下，在第一針甚至第二針的空白樣品中會出現一個殘留比例固定的殘留峰，隨著體積殘留所致的殘留峰消失，吸附峰在以后的空白樣品中會一直存在，當上述所有的解決方案都嘗試后，仍不能消除殘留峰的存在。

　　這種情況下，您也許可以考慮調整進樣順序，即所有高濃度樣品后都跟著一系列的空白樣品，直至殘留峰消失，低濃度的樣品需要優先于高濃度樣品進樣。若在樣品濃度未知的情況下，需要在進樣后增加空白樣品以獲得樣品大致濃度，進而適當的調整樣品運行的順序以免影響后續樣品的實驗結果。

　　3、不完全洗脫

　　特征：在梯度洗脫中存在不被完全洗脫物質是極不可能的。在等度洗脫中，若存在某組分在一個運行時間內未能洗脫，則該組分會在后續的運行中出現一個峰寬異常的峰。

　　解決辦法：增加運行時間。

　　科研人的實驗生涯總是那么的悲喜交加，就像做生物分析實驗，一邊為靈敏度高、特異性強、分析速度快的 LC-MS/MS 檢測技術兩眼放光，一邊為隨之而來的污染和殘留眉頭緊鎖.....